Przygotowanie Powierzchni

Podsumowanie/wnioski

Chlorek metylenu i inne rozpuszczalniki o niskiej temperaturze wrzenia charakteryzują się doskonałymi parametrami technicznymi, ale podlegają zwiększonym globalnym regulacjom prawnym ze względu na zwiększoną świadomość bezpieczeństwa pracowników. Nieorganiczne procesy wysokotemperaturowe dramatycznie zmieniają zamierzone właściwości stopu aluminium. Krytyczne skazy wyłączają te procesy z brania ich pod uwagę jako realne możliwości usuwania farby z kół aluminiowych, pozostawiając jedynie gorący skoncentrowany kwas siarkowy i płyn organiczny.
Skoncentrowany gorący kwas siarkowy agresywnie wytrawia podłoża i zwiększa ogólną ilość materiałów objętych korozją nitkowatą o 100%. Dopiero za dodatkowym kosztem części poddane ponownemu przetwarzaniu mogą odzyskać optymalną wydajność. Części, które nie mogą być poddane ponownej obróbce (jak obudowy), ucierpią w nieokreślony sposób wskutek pojawienia się korozji nitkowatej. Stosujący, gorący kwas siarkowy konieczny jest balans między trwałą utratą równowagi i powstawaniem stref korozji nitkowatej 

Proces zatwierdzania części produkcji (PPAP) jest dobrze kontrolowany a wysokie wymagania dotyczące wyglądu kół aluminiowych obejmują skład stopu aluminiowego koła, technologię obróbki wstępnej oraz parametry i zastosowanie farb, a także proces utwardzania. Proces usuwania farby, której samo aluminiowe koło zostaje pozbawione w celu regeneracji, nie jest dobrze kontrolowany i ma bardzo niską transparentność. Dane przedstawione w niniejszym opracowaniu przedstawiają zmiany właściwości kół, w dramatyczny sposób zależne od wybranego procesu, a zatem uwidaczniają konieczność poddania procesu usuwania farby z kół aluminiowych wymogowi PPAP w celu zapewnienia kontroli jakości.
Rozważając wszystkie aspekty usuwania farby z kół aluminiowych – ochronę zdrowia, bezpieczeństwa pracowników i środowiska, utrzymanie zamierzonych właściwości stopu i sposobu utylizacji odpadów – najkorzystniejszą komercyjnie dostępną technologią jest technologia cieczy organicznej.          

Agnes Rousseau
Christopher Ringholz
Tom Patena
John Kochilla 
Atotech